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高精度硅基掩膜版
二維材料器件

高精度的硅基掩膜版是通過微納加工中常用的刻蝕的方法,在硅基底上刻蝕出高精度的鏤空掩膜圖案,常被用于二維材料電學,光電等性質的研究。原位芯片通過將高精度的硅基掩膜版覆蓋在薄膜材料表面并暴露出電極圖案部分沉積金屬制備金屬電極。

產品應用


科研人員研究二維材料的電學,光電等性質時一般使用硅基掩膜版來制備高精度的二維材料金屬電極。

工藝能力


 最小線寬2um  非鏤空圖案部分最薄200um  鏤空圖案部分最薄20um

我們的優勢


 掩膜圖形可定制  精度高  強度高、不易碎  工藝成熟